【財訊快報／劉敏夫】外電報導指出，摩根大通方面認為，鑒於中國本土晶片設備製造商的技術仍相對落後，而且光刻機市場的供應量難以滿足需求，短期內，中國浸沒式深紫外(DUV)光刻機無法撼動艾司摩爾(ASML)市場地位。

摩根大通分析師Sandeep Deshpande表示，市場反應似乎與報導所透露的訊息不成比例。

Deshpande表示，生產少量浸沒式DUV設備，並不等於能夠製造可用於大規模生產的設備。對於大批量生產來說，真正重要的是良率、套刻精度、生產效率，以及設備在數千次晶圓運行中的可靠性。

他表示，這是中國半導體設備自給進程中的又一個進展，它增加了艾司摩爾中國收入面臨的長期風險，但該公司的中期盈利前景應不會受到影響。