【時報-台北電】中國半導體自主化迎來重大突破。外媒報導，由中國國企上海愛晟納電子技術集團領導的本土團隊，生產自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機。這項進展意味著在西方出口管制壓力下，中國晶片製造商有望獲得關鍵設備的替代來源，市場亦高度關注是否會影響全球半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）的地位。

　科技媒體The Information報導，目前上海愛晟納DUV曝光機的進展仍處於早期階段，相關設備仍需經過進一步測試，其與艾司摩爾的成熟機種相比仍有顯著差距。上海愛晟納預計2026年生產約5台DUV設備，2027年產量增至約20台，2026年內將交付給中芯國際、華虹半導體、長鑫存儲等中國晶圓代工與記憶體大廠。

　受上述消息影響，ASML美股27日大跌5.92％，28日盤前續跌約5％。美國設備廠應用材料、Lam Research及KLA股價28日美股盤前同步走跌。

　受限於美國與荷蘭的出口管制政策，中國晶片業者無法取得更先進的極紫外光（EUV）曝光機，甚至浸潤式DUV設備也面臨嚴格限制，這使中國業者極力尋求本土替代方案以降低對外依賴。

　路透報導，上海愛晟納成立於2023年8月，註冊資本額達人民幣70億元，僅有兩家國企股東，並整合宇量昇和上海微電子這兩家深度參與中國半導體自主計畫的研發團隊。值得注意的是，宇量昇是華為支持的半導體設備製造商新凱來（SiCarrier）的關聯公司。

　美銀證券分析師Didier Scemama認為，中國���產DUV設備對艾司摩爾的威脅相對有限，主因是上海微電子至今尚未展現28奈米以下製程的大規模量產能力。在中國先進製程生產中，設備性能即使僅些微下滑，也會大幅降低良率並推高晶片成本。據估算，即使中國2027年成功採購20台國產DUV設備，艾司摩爾的銷售額只會減少約14億歐元，約占其預期總銷售額的2.4％。

　摩根大通分析師Sandeep Deshpande則強調，製造出原型機與進入晶圓廠大規模量產完全不同。生產少量的浸潤式DUV設備，與打造能穩定用於量產的機器天差地遠。良率、套刻精度、產能與運行數千片晶圓的可靠性，才是商業化的真正考驗。雖然此事對艾司摩爾中國業務的長期風險上升，仍維持對艾司摩爾中期盈利前景不變的判斷。(新聞來源 : 工商時報一蘇崇愷／綜合報導)