【時報-台北電】第二十六屆中國國際工業博覽會上，被視為高端光刻機「心臟」的極紫外（EUV）光源系統樣機首度公開展出。由朗道燧岩（上海）科技有限公司研發的這套系統，據稱國產化率已達90％，目前可用於晶片曝光測試，但距離商業化量產仍需3至5年。

綜合《觀察者網》等多家陸媒報導，EUV光源是7奈米及以下先進製程晶片製造的重要核心技術之一。目前，荷蘭艾司摩爾（ASML）是全球唯一能夠製造並交付商用EUV光刻機的廠商。

EUV光源主流技術為雷射產生等離子體（LPP），透過高功率雷射照射錫滴產生極紫外光。ASML於2013年收購光源技術廠商Cymer，進一步整合相關技術與供應鏈，形成高技術門檻。

朗道燧岩工作人員表示，此次展出的系統多數核心零組件由公司自主研發，技術路線與國際主流方案一致。不過，樣機亮相不代表已具備量產能力，目前仍須提高輸出功率，並改善長時間運轉的穩定性與可靠度。商用EUV光刻系統通常需要數百瓦級光源功率，相關技術仍有待突破。

公司資料顯示，旗下低功率EUV光源系統FlintNano LPP-OXXO已進入產品化階段，EUV能量大於15瓦，持續工作時間超過100小時；高功率FlintMicro-LPP系列則已完成原理論證。（新聞來源：旺報即時 林俞彤）