《半導體》力積電重回成長軌道 樂觀未來幾季續供不於求

【時報記者林資傑台北報導】晶圓代工大廠力積電(6770)今(21)日召開線上法說,總經理朱憲國表示,公司營運已自谷底翻揚,重返正向成長循環。隨著記憶體供需結構改善、邏輯代工需求回溫,加上3D AI代工布局逐步發酵,預期未來數季需求將持續高於供給,整體營運展望樂觀。
朱憲國指出,近期DRAM市場雖受部分中小型廠拋貨求現、新演算法減少記憶體需求等雜音干擾,但AI業者近期與DRAM大廠簽訂3年長約,供給缺口估持續至下半年。力積電DRAM代工價3月已大幅調整,漲價效益估6月起對營收帶來雙位數以上貢獻。
同時,力積電已與美光展開1P製程開發,設備預計2027年首季遷入,目標2028年上半年試產、下半年量產。朱憲國表示,1P晶圓顆粒數為現有主力製程平台2.5倍,將對未來DRAM產值推升帶來明顯效益。
而SLC NAND Flash合約及現貨價受韓系大廠淡出影響顯著上漲,力積電4月已大幅調漲NAND晶圓代工價,並加速24奈米MLC製程開發,目標年底前完成、2027年上半年提供客戶設計導入(tape-out)。NOR Flash已於去年第四季放量,車用產品持續驗證中。
邏輯代工方面,朱憲國表示,由於銅鑼廠機台陸續停線遷回新竹廠,12吋產產線總產能限縮,面板驅動晶片(DDIC)及CIS影像感測器晶圓供給不足,代工價自1月起已有雙位數漲幅。公司亦持續優化產品組合,逐步淘汰低毛利產品,提升整體獲利結構。
應用需求方面,AI伺服器的電源管理晶片(PMIC)需求強勁,主要客戶已完成驗證並開始放量,月投片量已破萬。手機方面,今年出貨量雖因記憶體漲價而下修,但5G手機的PMIC用量為4G的2.5倍,手機IC大廠對中長期需求不看淡,投片力道未見減弱。
8吋製程方面,功率元件受AI與儲能應用帶動需求續增,整體產能維持緊俏。手機及PC/NB需求雖預期因記憶體大漲而衰退,但客戶首季需求在「越晚買越貴」預期效應下不減反增。車用市場首季需求平淡,但部份車用功率器件客戶投片需求因市占率提升而明顯增加。
朱憲國指出,力積電8吋產能因竹南廠部份改為12吋用而限縮,加上客戶需求仍強,供給吃緊使晶圓代工價自3月起逐月調升平均約10%。氮化鎵(GaN)及矽電容已少量投片,將成為中長期成長動能。整體而言,未來幾季8吋及12吋邏輯代工投片需求均大於供給。
3D AI代工方面,朱憲國表示,中介層(Interposer)需求續增,但產線因自銅鑼廠遷出而短暫停線,預計第三季在新竹廠復線。WoW晶圓堆疊4層工程樣品與一線大廠驗證順利,明年可望陸續小量生產,8層產品開發進展順利,目前良率改善中。
而力積電的12吋整合型被動元件(IPD)已獲國際大廠認證,將自本季開始放量先行備貨,應用於嵌入式多晶片互連橋接(EMIB)先進封裝,2027年下半年起月投片需求近1萬片。朱憲國看好,美系客戶推動的EMIB有望在AI伺服器市場占有一席之地。
而力積電與美光合作的HBM後段晶圓代工(PWF)產線,已在新竹廠擴建無塵室,預計第三季遷入機台、第四季試產、2027年第四季量產,目標月產能2萬片。朱憲國預期,今年3D AI代工營收貢獻將較去年的2%顯著提升,未來成為第三大支柱、擔當營運成長主動能。
朱憲國表示,力積電自2026年起轉型為以AI應用為核心的晶圓代工廠,結合記憶體、邏輯與3D先進封裝技術,布局PMIC、功率元件及矽中介層等關鍵元件,緊跟AI雲端與終端需求成長浪潮,未來將持續著重技術開發,並與客戶深化合作、共創雙贏。
