【財訊快報／劉敏夫】外電報導指出，法國巴黎銀行(BNP Paribas)表示，短期來看，中國生產浸沒式深紫外(DUV)光刻機對艾司摩爾(ASML)構成的風險可能有限。

法國巴黎銀行分析師Jakob Bluestone表示，中國生產浸沒式DUV光刻設備對艾司摩爾來說是一個小利空，但歸根結底，ASML這家荷蘭公司面臨的需求仍遠遠超過其現有供應能力。

預計到2030年前，僅中國的DRAM產能擴張就需要每月新增加工逾50萬片晶圓，這需要數百台ArFi浸沒式光刻機。與此同時，邏輯晶片產能擴張也可能加劇對有限設備供應的競爭。

由於艾司摩爾還必須滿足其他地區的需求，不可能覆蓋整個中國市場，因此，為支撐上述產能成長，中國本地生產光刻設備可能是必要的。